HAPC   先进制程控制系统

应用场景

在集成电路生产过程中,制造环境、机台状态、材料质量在时时发生变化。生产条件的变化会引起各道工艺品质的变化,继而影响器件性能和产品良率。当前工厂通常采用Run to Run的方法来提升产品的一致性。而在实际生产过程中,存在大量Run to Run难以捕捉到的变化,如多产品交错生产、机台状态的变化、并行生产机台的差异性等。

鸿之微的HAPC系统不但支持反馈控制(feedback),更支持前馈控制(feedforward)。

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HAPC系统引入了多维度网络的方法,利用大数据挖掘将工艺控制与环境的变化紧密结合,大大提高APC系统的控制能力。



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HAPC系统中各种控制任务的应用程序——


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