业务介绍 

半导体生产设备与工艺模拟仿真

利用计算液体力学、电磁场仿真、数字孪生等技术,对半导体生产设备做仿真模拟。帮助设备生产商设计和优化工艺腔室。打通生产工艺和材料器件性能计算的流程。



半导体工艺和器件仿真解决方案TCAD

TCAD(Technology Computer Aided Design)是建立在半导体物理基础之上的数值仿真工具,它可以对不同工艺条件进行仿真,取代或部分取代昂贵、费时的工艺实验;也可以对不同器件结构进行设计和优化,获得理想的特性;还可以对电路性能及电缺陷等进行模拟。


1-20011913553L11.png

Device TCAD是鸿之微基于NEGF-DFT等技术开发的Atomistic TCAD软件,可以用于不同材料类型、不同器件结构的纳米器件的模拟,目前已经被国内外多家高校、研究所以及企业所采用。

作为国内唯一一家从事Atomistic TCAD软件开发与服务的高新科技公司,鸿之微的技术路线不仅包含了基于NEGF-DFT技术的原子尺度的Atomistic TCAD产品,其技术路线也实现了原子尺度的全覆盖。

对于基于NEGF-TB的原子尺度TCAD,鸿之微科技也进行了相应的Atomistic TCAD软件产品开发,对应的产品有Nanoskif和Nanoskim等软件模块。


1-2001191356415U.png


Device TCAD技术方法基于NEGF-DFT技术,为了解决传统NEGF-DFT中面对随机掺杂等方面的问题,Device TCAD中开发了NEGF-CPA技术,能够更好的处理掺杂工艺对器件和材料性能的影响。